封面圖片:理學R-AXIS IV 探測器測得的PCBA薄膜的二維掠入射小角散射圖像。
摘自圖書 X-ray scattering(https://www.intechopen.com/chapters/52323)
四、晶粒尺寸大小的測定
在高溫、低溫和瞬時的動態分析。理學提供了XRD和DSC聯合的解決方案。
理學設備DSC8231 差示掃描量熱儀
6. 小角散射
用于研究電子濃度不均勻區的形狀和大小。
理學設備NANOPIX 小角和廣角X射線散射系統
用于研究近完整晶體中的缺陷如位錯線等。
理學設備nano3DX X射線顯微鏡
8.單晶研究
常采用四圓衍射儀配用電子計算機自動控制和記錄,可以精確測定晶格參數,并將衍射點的強度數據依次自動收集,簡化了實驗過程,而且大大提高了數據的精確度。因此,它已成為當前晶體結構分析中強有力的工具。
理學設備XtaLab Synergy-S 單晶X射線衍射儀